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The Effects of Poly Corner Etch Residue on Advanced Finfet Device Performance
多边形角蚀残留物对先进Finfet器件性能的影响
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网址
https://doi.org/10.1109/cstic52283.2021.9461583
DOI
10.1109/cstic52283.2021.9461583 doi
其它 期刊：
作者：Qingpeng Wang; Yu De Chen; Cheng Li; Rui Bao; Jacky Huang; et al
出版日期：2021-03-14
求助人
卞仁吉 在 2024-12-16 13:24:54 发布自浙江，悬赏 10 积分
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