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High-throughput fabrication of large-scale metasurfaces using electron-beam lithography with SU-8 gratings for multilevel security printing
利用SU-8光栅的电子束光刻高通量制造大规模超表面用于多级安全印刷
相关领域
抵抗
电子束光刻
平版印刷术
材料科学
电介质
光学
栅栏
制作
光电子学
反射(计算机编程)
纳米技术
计算机科学
物理
图层(电子)
替代医学
程序设计语言
病理
医学
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期刊:Photonics Research 作者:You Sin Tan; Hao Wang; Hongtao Wang; Chengfeng Pan; Joel K. W. Yang 出版日期:2023-02-27 |
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