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 Polycrystalline and high purity SnO2 films by plasma-enhanced atomic layer deposition using H2O plasma at very low temperatures of 60–90 °C 以Sn（dmamp）2为Sn前驱体的硫化锡和氧化锡原子层沉积氧化锡复合薄膜
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锡
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薄膜
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10.1016/j.ceramint.2019.10.254
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期刊：Vacuum 作者：Jong Hyeon Won; Heechul Choi; Seong Ho Han; Bo Keun Park; Taek‐Mo Chung; et al 出版日期：2022-02-01 |
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