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 Optimized phase-shifting masks for high-resolution resist patterning by interference lithography 干涉光刻高分辨率抗蚀剂图案化的优化相移掩模
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期刊： 作者：Sascha Brose; Serhiy Danylyuk; Lukas Bahrenberg; Peter Loosen; Larissa Juschkin; et al 出版日期：2017-10-16 |
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