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标题
Conformal Electrochemical Deposition of Intermetallic AuCu Thin Films for Convergent C-N Coupling
共形电化学沉积用于会聚C-N耦合的金属间化合物AuCu薄膜
相关领域
金属间化合物 沉积(地质) 材料科学 电化学 共形映射 联轴节(管道) 冶金 薄膜 化学工程 纳米技术 化学 合金 物理化学 几何学 数学 地质学 电极 古生物学 沉积物 工程类
网址
DOI
10.1039/d4ta07268e doi
其它 期刊:Journal of Materials Chemistry A
作者:Carter S. Gerke; Gregory D. Foley; Logan M. Wilder; Yuwei Yang; James L. Young; et al
出版日期:2024-12-03
求助人
zombie 在 2024-12-18 22:09:37 发布自天津,悬赏 10 积分
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