Toward a universal resist dissolution model for lithography simulation

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标题	Toward a universal resist dissolution model for lithography simulation 光刻模拟的通用抗蚀剂溶解模型相关领域抵抗光刻胶平版印刷术速率方程溶解材料科学纳米技术物理化学光电子学动力学经典力学物理化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.425197
DOI	10.1117/12.425197 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Stewart A. Robertson; Chris A. Mack; Mark J. Maslow 出版日期：2001-04-26
求助人	花花猪1989 在 2025-02-18 13:54:36 发布自北京，悬赏 20 积分
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