| 标题 |
 High-Endurance MoS2 FeFET with Operating Voltage Fess Than IV for eNVM in Scaled CMOS Technologies 用于缩放CMOS技术中eNVM的工作电压Fess高于IV的高耐久性MoS2 FeFET
相关领域
CMOS芯片
电压
电气工程
堆栈（抽象数据类型）
计算机科学
铁电性
晶体管
光电子学
拓扑（电路）
工程类
材料科学
操作系统
电介质
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Tsung-En Lee; Hung-Li Chiang; Chih‐Yu Chang; Yuan-Chun Su; Shu-Jui Chang; et al 出版日期：2023-12-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
请叫我风吹麦浪
kingwill
zho
Hungrylunch
Leon
36456657
pcr163
个性的紫菜
yar
浦肯野
眯眯眼的衬衫
杳鸢
VDC
子车茗
天真蓝
无名老大
HEIKU
期待未来的自己
Loooong
皖公网安备34019202002308
