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 Optical and electrical properties of plasma-oxidation derived HfO 2 gate dielectric films 等离子体氧化衍生HfO 2栅介质薄膜的光学和电学性质
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期刊：Applied Surface Science 作者：Guanghu He; Liqiang Zhu; M. Liu; Qi Fang; L.D. Zhang 出版日期：2007-01-01 |
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