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![]() NbCx薄膜的非反应HiPIMS沉积:靶功率密度对结构-力学性能的影响
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高功率脉冲磁控溅射
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期刊:Surface and Coatings Technology 作者:A. Bahr; T. Glechner; Tomasz Wójcik; A. Kirnbauer; Markus Sauer; et al 出版日期:2022-07-01 |
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