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An innovative approach for controlled epitaxial growth of GaAs in real MOCVD reactor environment
真实MOCVD反应器环境中GaAs受控外延生长的创新方法
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网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.151752
DOI
10.1016/j.jallcom.2019.151752 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：P. Saxena; Pankaj Srivastava; R. Trigunayat
出版日期：2019-08-09
求助人
秦子越 在 2024-11-06 15:51:56 发布自吉林，悬赏 10 积分
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