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 An innovative approach for controlled epitaxial growth of GaAs in real MOCVD reactor environment 真实MOCVD反应器环境中GaAs受控外延生长的创新方法
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期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：P. Saxena; Pankaj Srivastava; R. Trigunayat 出版日期：2019-08-09 |
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