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[高分]
 Towards molecular-scale kinetic Monte Carlo simulation of pattern formation in photoresist materials for EUV nanolithography EUV纳米光刻用光刻胶材料图案形成的分子尺度动力学蒙特卡罗模拟
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期刊： 作者：Lois Fernandez Miguez; P. A. Bobbert; R. Coehoorn 出版日期：2023-05-01 |
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