Atomic layer etching of titanium nitride with surface modification by Cl radicals and rapid thermal annealing

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标题	Atomic layer etching of titanium nitride with surface modification by Cl radicals and rapid thermal annealing 氯自由基表面改性和快速热处理的钛原子层腐蚀相关领域锡氮化钛退火（玻璃） X射线光电子能谱材料科学钛无定形固体表面改性氮化物分析化学（期刊）蚀刻（微加工）化学工程图层（电子）纳米技术化学复合材料冶金结晶学有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1116/6.0001827
DOI	10.1116/6.0001827 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Nobuya Miyoshi; Nicholas McDowell; Hiroyuki Kobayashi 出版日期：2022-04-05
求助人	复杂的小翠在 2024-09-18 18:51:43 发布自陕西，悬赏 10 积分
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