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标题
Oxide thin film depth profiling: interest and limitations of argon sputtering for photoemission spectroscopy
氧化物薄膜深度剖面：氩溅射用于光电发射光谱的兴趣和局限性
相关领域
溅射 氩 材料科学 薄膜 仿形（计算机编程） 光电发射光谱学 X射线光电子能谱 氧化物 光谱学 光电子学 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 计算机科学 原子物理学 化学工程 物理 冶金 工程类 量子力学 操作系统 色谱法
网址
https://hal.science/hal-04404647
AI链接 hal.science
DOI
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其它 期刊：
作者：Mathieu Frégnaux; Yoan Bourlier; B. Bérini; Yves Dumont; Damien Aureau
出版日期：2022-05-29
求助人
伊一 在 2025-04-09 17:33:02 发布自山东，悬赏 10 积分
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  • 1天前，求助关闭

    科研通管家 科研通管家 机器人 关闭了本次求助。

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  • 6天前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 机器人下载超时，请等待人工应助

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  • 6天前

    伊一 伊一 Lv12 求助人 发起了本次求助

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