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 Stochastic defect generation depending on tetraalkylhydroxide aqueous developers in extreme ultraviolet lithography 极紫外光刻中四烷基氢氧化物水性显影剂的随机缺陷产生
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极紫外光刻
光刻胶
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Masahiko Harumoto; Andreia Figueiredo dos Santos; Julius Joseph Santillan; Toshiro Itani; Takahiro Kozawa 出版日期：2022-12-07 |
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