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 The Microstructure and Chemical State of W-Si-N Layers Formed in W/WN[sub x]/Poly-Si Systems during Postannealing W/WN[sub x]/Poly-Si系统中W-Si-N层在后退火过程中的微观结构和化学状态
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：S. K. Kang; B. G. Min; D.-H. Ko; H. B. Kang; C. W. Yang; K. Y. Lim 出版日期：2004-04-21 |
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