| 标题 |
[高分]
 A Fast Mask Manufacturability and Process Variation Aware OPC Algorithm with Exploiting a Novel Intensity Estimation Model 一种基于新型强度估计模型的快速掩模可制造性和工艺变化感知OPC算法
相关领域
可制造性设计
光学接近校正
工艺变化
平版印刷术
强度（物理）
算法
计算机科学
过程（计算）
串联（数学）
计算
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期刊：IEICE Transactions on Fundamentals of Electronics, Communications and Computer Sciences 作者：Ahmed Awad; Atsushi Takahashi; Chikaaki Kodama 出版日期：2016-01-01 |
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