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标题
Study of ferroelectric characteristics of Hf0.5Zr0.5O2 thin films grown on sputtered or atomic-layer-deposited TiN bottom electrodes
溅射或原子层沉积TiN底电极上生长的Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的铁电特性研究
相关领域
原子层沉积 材料科学 铁电性 溅射 薄膜 电极 图层(电子) 物理气相沉积 化学气相沉积 冶金 光电子学 复合材料 纳米技术 化学 电介质 物理化学
网址
DOI
10.1063/5.0011663 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Beom Yong Kim; Baek Su Kim; Seung Dam Hyun; Ho Hyun Kim; Yong Bin Lee; et al
出版日期:2020-07-13
求助人
沈家宁 在 2025-01-20 17:41:31 发布自福建,悬赏 10 积分
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