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标题
Sub-100 nm pixel pitch via STED photolithography with a nanoprinting-at-expansion/employments-at-recovery strategy
相关领域
扫描电镜 光学 材料科学 飞秒 激光器 衍射 点间距 像素 平版印刷术 光电子学 受激发射 物理
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DOI
10.1364/OE.476511 doi
求助人
God 在 2023-05-08 12:39:17 发布自浙江,悬赏 10 积分
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求助 / 应助时间线
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  • 1年前

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