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 Reduced thermal resistance of amorphous Al2O3 thin films on β-Ga2O3 and amorphous SiO2 substrates via rapid thermal annealing β-Ga2O3和SiO2衬底上Al2O3薄膜热阻的快速退火研究
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Henry T. Aller; Alan J. H. McGaughey; Jonathan A. Malen 出版日期：2023-09-25 |
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