| 标题 |
 Dry Etching of Polyimide in O 2 ‐ CF 4 and O 2 ‐ SF 6 Plasmas O2-CF4和O2-SF6等离子体中聚酰亚胺的干法刻蚀
相关领域
聚酰亚胺
Kapton
蚀刻（微加工）
反应离子刻蚀
干法蚀刻
托尔
分析化学（期刊）
X射线光电子能谱
等离子体刻蚀
氮气
材料科学
等离子体
硅
质谱法
化学
化学工程
复合材料
图层（电子）
有机化学
冶金
色谱法
物理
量子力学
工程类
热力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of the Electrochemical Society 作者：G. Turban; M. Rapeaux 出版日期：1983-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
科研小民工
劲秉
杳鸢
迟大猫
小林太郎
故意的傲玉
Zn
sweetbearm
lalala
36456657
浦肯野
kingwill
火星上的菲鹰
pluto
RC_Wang
紧张的梦岚
坚强的广山
hhhblabla
从心
皖公网安备34019202002308
