Plasma-assisted filling electron beam lithography for high throughput patterning of large area closed polygon nanostructures

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标题	Plasma-assisted filling electron beam lithography for high throughput patterning of large area closed polygon nanostructures 用于大面积封闭多边形纳米结构高通量图案化的等离子体辅助填充电子束光刻相关领域抵抗电子束光刻平版印刷术多边形（计算机图形学）材料科学纳米光刻吞吐量纳米技术阴极射线制作光电子学光学计算机科学电子物理图层（电子）病理帧（网络）电信医学替代医学无线量子力学
网址	https://doi.org/10.1039/d0nr01032d
DOI	10.1039/d0nr01032d doi
其它	期刊：Nanoscale 作者：You Sin Tan; Hailong Liu; Qifeng Ruan; Hao Wang; Joel K. W. Yang 出版日期：2020-01-01
求助人	清寒在 2024-06-12 21:50:07 发布自重庆，悬赏 10 积分
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