| 标题 |
 Effects of gallium doping on the properties of amorphous-SiC:H films prepared by magnetron cosputtering 镓掺杂对磁控共溅射非晶SiC：H薄膜性能的影响
相关领域
材料科学
镓
兴奋剂
无定形固体
光电导性
带隙
分析化学（期刊）
悬空债券
电阻率和电导率
电子迁移率
活化能
溅射沉积
腔磁控管
塞贝克系数
薄膜
光电子学
硅
溅射
纳米技术
结晶学
化学
物理化学
冶金
复合材料
电气工程
工程类
色谱法
热导率
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：Nobuo Saito; Y. Inui; Tetsuo Yamaguchi; I. Nakaaki 出版日期：1998-02-15 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
毛豆
嘉心糖
丰知然
杳鸢
彭于彦祖
yar
Billy
嗯哼
123
Ganlou
HCLonely
坚强的广山
我不爱池鱼
从容芮
子车茗
mhl11
pluto
cocolu
sissiarno
张益萌
皖公网安备34019202002308
