标题 |
Control of metamorphic buffer structure and device performance of InxGa1−xAs epitaxial layers fabricated by metal organic chemical vapor deposition
金属有机化学气相沉积InxGa1-xAs外延层变质缓冲结构和器件性能的控制
相关领域
材料科学
外延
化学气相沉积
变质岩
缓冲器(光纤)
金属
沉积(地质)
金属有机气相外延
分析化学(期刊)
光电子学
纳米技术
冶金
图层(电子)
环境化学
地质学
古生物学
生物
化学
电信
计算机科学
地球化学
沉积物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Nanotechnology 作者:Hong-Quan Nguyen; Hung Wei Yu; Quang Ho Luc; Yanqun Tang; Van Thinh Phan; et al 出版日期:2014-11-14 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|