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Suppression of the surface roughness by adjusting the temperature distribution in the top-seeded solution growth of SiC crystal
通过调节SiC晶体顶部晶种溶液生长中的温度分布来抑制表面粗糙度
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期刊:Journal of Materiomics 作者:Mengyu Li; Yuhui Liu; Xiaofang Qi; Wencheng Ma; Xu Yongkuan; et al 出版日期:2024-12-01 |
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