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Sub-volt metal-oxide thin-film transistors enabled by solution-processed high-k Gd-doped HfO2 dielectric films
溶液处理高k Gd掺杂HfO2介电膜使能的亚伏金属氧化物薄膜晶体管
相关领域
材料科学 电介质 薄膜晶体管 兴奋剂 X射线光电子能谱 分析化学（期刊） 栅极电介质 薄膜 光电子学 介电损耗 氧化物 晶体管 纳米技术 化学工程 图层（电子） 电压 电气工程 冶金 化学 色谱法 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107746
DOI
10.1016/j.mssp.2023.107746 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Hyunhee Kim; Taegyu Kim; Young-Jin Kang; Seoung-Pil Jeon; Jiwan Kim; et al
出版日期：2023-11-01
求助人
锵崽锵崽 在 2025-04-30 16:48:52 发布自广东，悬赏 10 积分
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