Role of Gd dopants on electrical properties of RF co-sputtered HfO2 thin films for resistive switching applications

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标题	Role of Gd dopants on electrical properties of RF co-sputtered HfO2 thin films for resistive switching applications Gd掺杂剂对电阻开关用射频共溅射HfO2薄膜电学性能的影响相关领域材料科学掺杂剂薄膜光电子学电阻式触摸屏纳米技术兴奋剂电气工程工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.mseb.2020.114997
DOI	10.1016/j.mseb.2020.114997 doi
其它	期刊：Materials Science and Engineering B 作者：K. C. Das; Sandip Ghosh; N. Tripathy; D. Pradhan; Rahul Singhal; et al 出版日期：2020-12-21
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