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  Enhancing control in spatial atomic layer deposition: insights into precursor diffusion, geometric parameters, and CVD mitigation strategies 增强空间原子层沉积的控制：对前驱体扩散、几何参数和CVD缓解策略的见解
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期刊：Nanotechnology 作者：Thien Thanh Nguyen; Diem Nguyen Thi Kieu; Hao Van Bui; Loan Le Thi Ngoc; Việt Hương Nguyễn 出版日期：2024-02-28 |
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