标题 |
Feasibility study of fabricating 20 nm resolution dielectric Fresnel zone plates with ultrahigh aspect ratio for EUV optics
极紫外光学用20nm分辨率超高宽高比介质菲涅耳波带片的可行性研究
相关领域
极紫外光刻
光学
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其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:Qingxin Wu; Qiucheng Chen; Quan Hao; Xujie Tong; Jun Zhao; et al 出版日期:2024-09-01 |
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