标题 |
High-efficiency removal of organic pollutants, antibiotic resistant bacteria and resistance genes by a photocatalysis-self-Fenton system based on S, K co-doped g-C3N4 nanosheets
S,K共掺杂g-C3N4纳米片光催化——自Fenton体系高效去除有机污染物、耐药菌和耐药基因
相关领域
光催化
污染物
细菌
抗生素耐药性
兴奋剂
环境化学
化学
微生物学
抗生素
材料科学
催化作用
生物
有机化学
遗传学
光电子学
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其它 |
期刊:Separation and Purification Technology 作者:Jing Xu; Pei-Ji Liang; Xuancheng Shen; Fei Wang; Yang Lou; et al 出版日期:2024-07-01 |
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