Impact of Boron Doping Concentration on Tunnel Oxide Passivated Contact in Front Surface for N-Type Poly-Si Based Passivated Contact Bifacial Solar Cells

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标题	Impact of Boron Doping Concentration on Tunnel Oxide Passivated Contact in Front Surface for N-Type Poly-Si Based Passivated Contact Bifacial Solar Cells 硼掺杂浓度对N型多晶硅基钝化接触双面太阳电池前表面隧道氧化物钝化接触的影响相关领域钝化兴奋剂氧化物硼硅材料科学分析化学（期刊）图层（电子）物理光电子学纳米技术化学有机化学核物理学冶金
网址	https://doi.org/10.1109/jphotov.2022.3151328
DOI	10.1109/jphotov.2022.3151328 doi
其它	期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Bo Yu; Ruobing Wang; Jia Shi; Feng Li; Hongfang Wang; et al 出版日期：2022-05-01
求助人	青街向晚在 2024-07-22 17:18:15 发布自陕西，悬赏 10 积分
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