Polarization switching in thin doped HfO2 ferroelectric layers

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标题	Polarization switching in thin doped HfO2 ferroelectric layers 掺杂HfO2薄铁电层中的极化开关相关领域铁电性极化（电化学）成核切换时间激发极化材料科学随机存取存储器凝聚态物理统计物理学物理计算机科学光电子学化学电介质量子力学热力学电阻率和电导率物理化学计算机硬件
网址	https://doi.org/10.1063/5.0035100
DOI	10.1063/5.0035100 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Monica Materano; Patrick D. Lomenzo; Halid Mulaosmanovic; Michael Hoffmann; Akira Toriumi; et al 出版日期：2020-12-28
求助人	YiAn-horizon 在 2024-09-18 11:28:54 发布自山东，悬赏 10 积分
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