| 标题 |
 Zn-Ti oxo cluster photoresists for EUV Lithography: Cluster structure and lithographic performance 用于EUV光刻的Zn-Ti氧代团簇光刻胶：团簇结构和光刻性能
相关领域
极紫外光刻
平版印刷术
星团（航天器）
配体（生物化学）
X射线光刻
材料科学
极端紫外线
纳米技术
抵抗
金属
化学
光电子学
结晶学
光学
计算机科学
物理
冶金
受体
生物化学
激光器
程序设计语言
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Xiuhe Wang; Runfeng Xu; Danhong Zhou; Jun Zhao; Jianhua Zhang; et al 出版日期：2024-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
寻道图强
丰盛的煎饼
加菲丰丰
杳鸢
shinysparrow
oceanao
竹筏过海
乐乐乐乐乐乐
YifanWang
西红柿炒番茄
Migue
ShowMaker
spark810
kento
tianzml0
田様
嗯哼
冒险寻羊
lqy
皖公网安备34019202002308
