Enhanced dill exposure model for thick photoresist lithography

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标题	Enhanced dill exposure model for thick photoresist lithography 用于厚光刻胶光刻的增强型dill曝光模型相关领域光刻胶抵抗平版印刷术材料科学微电子机械系统光刻光电子学光学纳米技术图层（电子）物理
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2005.01.014
DOI	10.1016/j.mee.2005.01.014 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Shijie Liu; Jinglei Du; Xi Duan; Boliang Luo; Xionggui Tang; et al 出版日期：2005-01-29
求助人	成就的笑蓝在 2025-02-18 19:57:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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