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 Nanoimprint lithography methods for achieving sub-3nm overlay 实现亚3nm覆盖的纳米压印光刻方法
相关领域
纳米压印光刻
材料科学
平版印刷术
覆盖
抵抗
制作
纳米技术
极紫外光刻
计算机科学
光电子学
多重图案
操作系统
医学
病理
替代医学
图层（电子）
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| 其它 |
Kenji Yamamoto, Hideyuki Wada, Yoshio Suzaki, Kazuhiro Sato, Satoshi Iino, Satoru Jimbo, Osamu Morimoto, Mitsuru Hiura, Roy Nilabh K |
| 求助人 | |
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