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 Molecular dynamics simulation of Si trench etching with SiO2 hard masks SiO2硬掩模刻蚀Si沟槽的分子动力学模拟
相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Nicolas A. Mauchamp; Satoshi Hamaguchi 出版日期：2022-08-10 |
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