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 Interface stability and microstructure of an ultrathin α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer diffusion barrier 超薄α-Ta/梯度Ta(N)/TaN多层扩散阻挡层的界面稳定性和微观结构
相关领域
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：C. H. Liu; W. Liu; Y. H. Wang; Y. Wang; Zhu An; et al 出版日期：2012-10-01 |
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