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12-inch growth of uniform MoS2 monolayer for integrated circuit manufacture
用于集成电路制造的12英寸均匀MoS2单层生长
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期刊:Nature Materials 作者:Yin Xia; Xinyu Chen; Jinchen Wei; Shuiyuan Wang; Shiyou Chen; et al 出版日期:2023-09-29 |
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