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Charging effect in HfO2 films deposited on SiO2/Si by atomic layer deposition
原子层沉积法在SiO2/Si上沉积HfO2薄膜的电荷效应
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期刊:Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft 作者:Silma Alberton Corrêa; Simone Brizzi; Massimo Tallarida; Dieter Schmeißer 出版日期:2014-01-01 |
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