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![]() 利用低温下C-V曲线精确评估InAs MOS界面的界面陷阱密度
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Ryohei Yoshizu; Kei Sumita; Kasidit Toprasertpong; Mitsuru Takenaka; Shinichi Takagi 出版日期:2023-01-10 |
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