标题 |
Time-dependent characterization of total electron yield and outgassing in model EUV resist materials
模型极紫外抗蚀剂材料中总电子产额和释气的时间依赖性特征
相关领域
放气
抵抗
极紫外光刻
产量(工程)
电子
材料科学
极端紫外线
表征(材料科学)
纳米技术
化学
物理
光学
复合材料
核物理学
激光器
有机化学
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊: 作者:Bernhard Lüttgenau; Shouxin Zhang; Qi Zhang; Cheng Wang; Ricardo Ruiz; et al 出版日期:2024-11-12 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|