Structural properties of polycrystalline silicon films prepared at low temperature by plasma chemical vapor deposition

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标题	Structural properties of polycrystalline silicon films prepared at low temperature by plasma chemical vapor deposition 低温等离子体化学气相沉积多晶硅薄膜的结构性能相关领域分析化学（期刊）化学气相沉积拉曼光谱硅微晶材料科学电子衍射傅里叶变换红外光谱化学衍射结晶学光学纳米技术物理色谱法冶金
网址	https://doi.org/10.1063/1.349732
DOI	10.1063/1.349732 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Hiroaki Kakinuma; M. Mohri; Masaaki Sakamoto; T. Tsuruoka 出版日期：1991-12-15
求助人	lou 在 2025-02-05 13:40:01 发布自浙江，悬赏 10 积分
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