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标题
(Invited) Cobalt Damascene Chemistry for Advanced Interconnect
（特邀）用于高级互连的钴镶嵌化学
相关领域
铜互连 互连 钴 沟槽 材料科学 电迁移 空隙（复合材料） 数码产品 纳米技术 铜 工程物理 半导体 冶金 光电子学 计算机科学 电气工程 工程类 复合材料 电信 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1149/ma2019-01/18/1049
DOI
10.1149/ma2019-01/18/1049 doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：Elie Najjar; Shaopeng Sun
出版日期：2019-05-01
求助人
一只壁虎 在 2024-11-28 16:00:33 发布自福建，悬赏 10 积分
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