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 Time-dependent characterization of total electron yield and outgassing in model EUV resist materials 模型极紫外抗蚀剂材料中总电子产额和释气的时间依赖性特征
相关领域
放气
抵抗
极紫外光刻
产量（工程）
电子
材料科学
极端紫外线
表征（材料科学）
纳米技术
化学
物理
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核物理学
激光器
有机化学
图层（电子）
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期刊： 作者：Bernhard Lüttgenau; Shouxin Zhang; Qi Zhang; Cheng Wang; Ricardo Ruiz; et al 出版日期：2024-11-12 |
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