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标题
Molecular dynamics simulation of SiC oxide layer mechanical polishing
二氧化硅层机械抛光的分子动力学模拟
相关领域
抛光 化学机械平面化 分子动力学 图层(电子) 材料科学 氧化物 复合材料 计算机科学 冶金 化学 计算化学
网址
DOI
10.1117/12.3038319 doi
其它 期刊:
作者:Xincheng Yin; Yuhang Zhou; Haiwang Liu; Youliang Wang; Shujuan Li
出版日期:2024-08-05
求助人
健壮的紫菱 在 2024-11-17 18:46:53 发布自陕西,悬赏 20 积分
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