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 Electron beam direct write lithography: the versatile ally of optical lithography 电子束直写光刻：光学光刻的万能盟友
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期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Fabien Laulagnet; Jacques-Alexandre Dallery; Laurent Pain; Michael May; B. Hemard; et al 出版日期：2023-06-12 |
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