标题 |
Effect of Co-Reactants on Interfacial Oxidation in Atomic Layer Deposition of Oxides on Metal Surfaces
共反应物对金属表面氧化物原子层沉积中界面氧化的影响
相关领域
石英晶体微天平
原子层沉积
X射线光电子能谱
材料科学
薄膜
化学计量学
基质(水族馆)
椭圆偏振法
图层(电子)
金属
化学工程
沉积(地质)
分析化学(期刊)
纳米技术
物理化学
化学
有机化学
吸附
冶金
古生物学
沉积物
工程类
生物
海洋学
地质学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Jay V. Swarup; Heng-Ray Chuang; A. You; J. R. Engstrom 出版日期:2024-03-20 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|