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[高分]
 Pattern-shaping technology enables improvements of logic layouts patterning beyond 15nm tip-to-tip 图案整形技术实现了超过15纳米尖端到尖端图案化的逻辑布局改进
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计算机科学
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期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XIV 作者：Guillaume Schelcher; Victor M. Blanco Carballo; Philippe Leray; Weimin Gao; Chihan Hsu; et al 出版日期：2025-04-23 |
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(2025-6-4)
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