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 Dependence of annealing temperature on microstructure and photoelectrical properties of vanadium oxide thin films prepared by DC reactive sputtering 退火温度对直流反应溅射氧化钒薄膜结构和光电性能的影响
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
微观结构
溅射
分析化学（期刊）
氧化钒
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氧化物
钒
电阻率和电导率
冶金
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电气工程
工程类
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期刊：SPIE Proceedings 作者：Yan Li; Dongping Zhang; Bo Wang; Guangxing Liang; Zhuanghao Zheng; et al 出版日期：2013-12-17 |
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