Effect of substrate and growth method on vanadium dioxide thin films by RF magnetron sputtering: Vanadium metal oxidation vs reactive sputtering

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标题	Effect of substrate and growth method on vanadium dioxide thin films by RF magnetron sputtering: Vanadium metal oxidation vs reactive sputtering 衬底和生长方法对射频磁控溅射二氧化钒薄膜的影响：钒金属氧化与反应溅射相关领域溅射钒材料科学溅射沉积薄膜分析化学（期刊）无机化学冶金化学纳米技术色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/5.0150898
DOI	10.1063/5.0150898 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Adam Christensen; Agham Posadas; Brian Zutter; Patrick Sean Finnegan; Shilpy Bhullar; et al 出版日期：2023-07-06
求助人	称心的乘云在 2024-01-07 16:45:10 发布自江西，悬赏 10 积分
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