Applications of a laser assisted defect detection system for chemical mechanical planarization (CMP) slurry development in rigid disk polishing

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标题	Applications of a laser assisted defect detection system for chemical mechanical planarization (CMP) slurry development in rigid disk polishing 化学机械平坦化(CMP)浆料研制激光辅助缺陷检测系统在硬盘抛光中的应用相关领域化学机械平面化材料科学抛光泥浆激光器复合材料机械工程光学工程类物理
网址	https://doi.org/10.1088/0957-0233/18/5/050
DOI	10.1088/0957-0233/18/5/050 doi
其它	期刊：Measurement Science and Technology 作者：Toshi Kasai; C. D. Dowell; A. Somanchi 出版日期：2007-04-03
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